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桌面式納米光柵熱壓印機 CNI-V2.1（大型儀器設備） 產品總覽 NIR-MFD-S-SM-2 NILT CNI 實驗用納米熱壓印機是專為實驗室和研發機構設計和開發的簡單易用、性能穩定的研發型設備，用戶可以通過CNI設備高效、低成本地實現高精度的納米熱壓工藝，許多的研發機構均購買了CNI的設備和NILT CNI熱壓設備。

光學元件鍍膜 (加工定制） 產品特點 ● 單層增透膜 ● 單層氟化鎂,用于BK7,熔融石英和其它光學玻璃 ● 低成本,高耐久性 ● 常規技術指標 ● 反射率:每面小于5% ● 耐久性:滿足MIL-C-675粘附性和摩擦試驗.

760nm 3米低成本全光纖氣體吸收池（TDLAS系統研發） 長光程氣體吸收池應用于多種譜分析檢測。主采具有優良學穩定性的赫里克 特氣室（ 特氣室（ Herriot Gas Cell），輔助與高穩定性的光學封裝結構，主要由氣室腔體、 凹面反射鏡），輔助與高穩定性的光學封裝結構，標準光纖接頭、功率探氣體進出口以及防震底座等組成。

3米長光程氣體吸收池（TDLAS研發） 產品總覽 根據可調諧半導體激光吸收光譜技術(TDLAS),采用Herriott池凹面反射鏡構建成多反腔長光程氣體池，反射鏡片采用鍍高質量的金、銀和保護層鍍膜，具有高的反射率。

40米長光程氣體吸收池 1300-1700nm筱曉光子的40米長光程氣體吸收池采用全光纖結構設計。光纖輸入和光纖輸出單元用于各種氣體的光譜分析和檢測。氣體吸收池的光學結構采用自主設計，具有優異的光學穩定性、輔助性和高穩定性的光學封裝結構。